至成鍍膜設備-AF真空鍍膜設備-南通鍍膜設備

冷成型模真空鍍膜機
高強度材料成形冷成型模真空鍍膜機高強度金屬成型中存在的高成型壓力和產生的摩擦成為工模具和涂層要面對的重要挑戰。pvd和cvd涂層展示的韌性、*性和*磨損性能顯著提高工具的生產能力。
hc90concept，作為一種無需氮化處理的新型物*相沉積（pvd）涂層，對于這些應用領域來講是非常理想的解決方案。hc22，hc25，hc30或hc62，均結合了氮化處理，對于公差要求高的工具是非常合適的涂層方案。hc02和hc62是非常適合公差要求不高工具的涂層方案。
有色金屬材料成型有色金屬材料通常比一般鋼材有更好的成形性，但其表面更難改變。hcpvd和pacvd涂層工藝的韌性、*性、低摩擦和*磨損性能夠顯著加強工具的生產能力，提高零部件的質量。冷鍛冷鍛是一種將固定大小的金屬塊組合成等量的復雜形狀的成型工藝。此過程中的工模具要經受高強度的壓力和高速率，和工件接觸的表面必然會產生磨料和粘著磨損。hcpvd和pacvd和hccvd涂層工藝的韌性、*性和低摩擦性能能夠顯著提高工模具的使用壽命和產品的質量。
鍍膜理論
鍍膜控制穿過光學干涉機制的反射光和透射光。當兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結合創建較大的總振幅。當光束為反相位（180°位移）時，其疊加會導致在所有峰值的消減效應，導致結合的振幅降低。這些效應被分別稱為建設性和*性的干涉。
光的波長和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位值。這種效應可簡單地通過單層增透膜例子說明。當光傳輸穿過系統時，在鍍膜任一側的兩個接口指數更改處將出現反射。為了盡量減少反射，我們希望它們在個接口重組時，這兩個反射部分具有180°的相位移。這個相位差異直接對應于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學厚度設置為λ/4獲得良好實現。
電子束光學鍍膜機有哪些特點
在玻璃/pmma/pc基片上形成光學多層薄膜的精密真空鍍膜機。將滿足客戶需求的多種元件組合在一起，可以形成品質更加優良的薄膜。
基片傘架采用了每分鐘可轉60轉的中心旋轉方式(公轉)，減少產生振動和顆粒，使基片能夠穩定旋轉。
采用坩堝上沒有*片的電子束加熱方式(2臺電子，10kw型)作為蒸發源，可以穩定地形成多層膜。
采用本公司*的比率控制法和多點在線監控，可以形成且穩定的光學多層膜。
可利用操作性良好的升降機來取出基片傘架。