KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片

帶通濾光片也叫干涉濾光片,主要起到過濾不想要的雜光,只讓想要的光通過的作用. 385nm紫外帶通濾光片是帶通濾光片中一款uv紫外波段的濾光片,廣泛應用于熒光檢測,多波段濾光片.它具有高透過率,其深截止可保探測器接收不到其它波長的光,因此可保證圖像的高亮度和大的信噪比. 385nm紫外帶通濾光片采用多層硬膜經離子輔助沉積納米材料高真空蒸發而成,膜層致密性好,成像清晰度高,厚度薄.為了得到效果,經過上海伯東某客戶采用光學鍍膜機加裝美國進口kri大尺寸射頻離子源rficp 380鍍制385nm紫外帶通濾光片.驗證過程及結果如下：
應用方向：美國kri射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片
離子源類型：美國kri射頻離子源rficp 380
鍍膜設備：1米7的大型蒸鍍設備
應用領域：uv臭氧燈、uv洗凈燈、uv光分解燈、uv燈、uv固化燈、uv-led、uv紫外光合成燈、熒光分析儀、熒光顯微鏡、生物芯片、酶標儀、工業相機、分光光度計、醫用理化分析設備、刑偵檢測、光學儀器、科學攝影、生命科學檢測儀器等
光學鍍膜機加裝美國進口kri大尺寸射頻離子源rficp 380鍍制385nm紫外帶通濾光片,可以獲得很小的ta2o5與sio2材料在紫外的吸收率,沉積過程穩定,加以合理的膜系設計,能達到行業級水準.
上海伯東美國kri射頻離子源rficp系列,燈絲提供高能量,低濃度的離子束,通過柵控制離子束的能量和方向,單次工藝時間長!射頻源rf系列提供完整的系列,包含離子源本體,電子供應器,中和器,自動控制器等.射頻離子源適合多層膜的制備,離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻,改善靶材的致密性,光透射,均勻性,附著力等.
上海伯東同時提供真空系統所需的渦輪分子泵,真空規,高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.1978 年 dr. kaufman 博士在美國創立 kaufman & robinson, inc 公司, 研發生產考夫曼離子源,霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經40 年改良及發展. 離子源廣泛用于離子清洗 pc, 離子蝕刻 ibe, 輔助鍍膜 ibad, 離子濺射鍍膜 ibsd 領域.
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