制版廠-金華掩膜板

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務！
光刻（英語：photolithography）是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用*和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、sos中的藍寶石。
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光刻板本體的外部邊緣增設(shè)一保護環(huán)，保護環(huán)具有多種開孔，以便在保護環(huán)處的硅片的邊緣處刻出晶粒，將光刻板本體處的硅片保護起來，硅片邊緣刻出晶粒后，邊緣的不合格情況通過目測可以清楚看出，能有效防止混料情況；利用本實用新型刻出的硅片，掩膜板，在高壓測試時，能防止漏電打火，安全性能具有較大提高
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通過金屬化過程，在硅襯底上布置一層僅數(shù)納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在*（一般是紫外線）后可以被特定溶液（顯影液）溶解。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上，可以對光刻膠進行選擇性照射（*）。然后使用前面提到的顯影液，溶解掉被照射的區(qū)域，這樣，光掩模上的圖形就呈現(xiàn)在光刻膠上。通常還將通過烘干措施，改善剩余部分光刻膠的一些性質(zhì)。
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